KLAPP PROBLEM SKIN CARE Очищающая маска для проблемной кожи, 100 мл
Подсушивающая, успокаивающая и поросуживающая маска на основе каолина с экстрактами фукуса и унаби. Идеальное завершение чистки. Маска полирует кожу и выравнивает микрорельеф, уменьшает воспаление.
AQUA/WATER/EAU, KAOLIN, TALC, CORN (ZEA MAYS) STARCH, TITANIUM DIOXIDE, PEG-7 GLYCERYL COCOATE, XANTHAN GUM, FRAGRANCE (PARFUM), ETHYLHEXYLGLYCERIN, CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE, PROPYLENE GLYCOL, PHENOXYETHANOL, METHYLPARABEN, ZIZIPHUS JUJUBA (JUJUBE) EXTRACT, FUCUS VESICULOSUS (BLADDERWRACK) EXTRACT, ETHYLPARABEN, BUTYLPARABEN, PROPYLPARABEN, BENZOIC ACID, POTASSIUM SORBATE, SODIUM BENZOATE, SORBIC ACID, HYDROXYCITRONELLAL, COUMARIN, LINALOOL, LIMONENE, ALPHA-ISOMETHYL IONONE
каолин, экстракт водорослей, экстракт китайского финика.
Нанесите маску на очищенную кожу лица и оставьте на 20 минут. Затем помассируйте кожу, но не смывайте остатки продукта.
В наличии
Запросить прайс
Вам также может понравится
Быстрый просмотр
PSC PROBLEM SKIN CARE Active Sebum Reducer 125мл
2 990 ₽
Быстрый просмотр
PSC PROBLEM SKIN CARE Oil Free Lotion 30мл
2 270 ₽
Быстрый просмотр
PSC PROBLEM SKIN CARE Sebum Cleanser 125мл
3 200 ₽
